機(jī)械密封包括壓力控制、溫度控制、流體替換(堵塞)和雜質(zhì)去除系統(tǒng)。在機(jī)械密封系統(tǒng)中，上述系統(tǒng)并不同時包括在內(nèi)。密封系統(tǒng)的選擇主要取決于主密封件的應(yīng)用范圍。例如，如果主密封用于高溫液體，密封系統(tǒng)應(yīng)確保降低主密封的環(huán)境溫度，即采用溫度控制系統(tǒng)。如果主密封用于固體雜質(zhì)含量高的工作介質(zhì)，密封系統(tǒng)應(yīng)確保在主密封前降低固體雜質(zhì)含量，即采用除雜系統(tǒng)。在腐蝕性介質(zhì)中，密封系統(tǒng)必須確保主密封降低腐蝕速率或消除腐蝕，即使用流體而不是堵塞流體系統(tǒng)；在高壓密封裝置中，輔助系統(tǒng)應(yīng)確保多級降壓和其他措施，即壓力控制系統(tǒng)。